home *** CD-ROM | disk | FTP | other *** search
/ NetNews Usenet Archive 1992 #26 / NN_1992_26.iso / spool / sci / material / 889 < prev    next >
Encoding:
Text File  |  1992-11-12  |  1.4 KB  |  41 lines
  1. Newsgroups: sci.materials
  2. Path: sparky!uunet!zaphod.mps.ohio-state.edu!rpi!batcomputer!cornell!uw-beaver!cs.ubc.ca!unixg.ubc.ca!kakwa.ucs.ualberta.ca!dliu
  3. From: dliu@ee.ualberta.ca (Dong Liu)
  4. Subject: Re: Properties of titanium nitride
  5. Message-ID: <1992Nov12.044549.25458@kakwa.ucs.ualberta.ca>
  6. Keywords: Titanium nitride
  7. Sender: news@kakwa.ucs.ualberta.ca
  8. Nntp-Posting-Host: edson.ee.ualberta.ca
  9. Organization: Dept. of E.E., U of Alberta, Edmonton,Canada
  10. References: <JAKE.92Nov11155601@nucst6.neep.wisc.edu>
  11. Distribution: sci
  12. Date: Thu, 12 Nov 1992 04:45:49 GMT
  13. Lines: 26
  14.  
  15. In article <JAKE.92Nov11155601@nucst6.neep.wisc.edu> jake@nucst6.neep.wisc.edu (james blanchard) writes:
  16. >
  17. >Since there was some response to a recent request for the properties
  18. >of silicon nitride, I thought I'd post a similar request.  Does anyone
  19. >have any information on the properties of titanium nitride?  I'm
  20. >particularly interested in the strength of the material (yield
  21. >strength, rupture strength, etc.).  Any numbers and or references
  22. >would be helpful.
  23. >
  24. >   Thanks,
  25. >--
  26. >
  27. >   jake blanchard -- university of wisconsin - madison
  28. >   blanchard@engr.wisc.edu  OR   jake@nucst6.neep.wisc.edu
  29. >
  30.  
  31. I have some good references as follows:
  32. "Material selection for  hard coatings"
  33. J.Voc.Sci.Tec.A 4 (6), pp.2661-2669,(1986)
  34.   
  35. "The deposition and film properties of reactively sputtered Titanium
  36. Nitride" ,  R.C. Ellwanger and J.M. Towner,
  37. Thin Solid Films 161, (1988), pp.289-304.
  38.    
  39. Good luck to you.
  40.  
  41.