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/ NetNews Usenet Archive 1992 #18 / NN_1992_18.iso / spool / sci / material / 627 < prev    next >
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Text File  |  1992-08-14  |  953 b   |  21 lines
  1. Newsgroups: sci.materials
  2. Path: sparky!uunet!wupost!uwm.edu!linac!att!news.cs.indiana.edu!umn.edu!csus.edu!netcom.com!bart
  3. From: bart@netcom.com (Harry Bartholomew)
  4. Subject: Re: Microelectronic Fabrication
  5. Message-ID: <1m6mt9m.bart@netcom.com>
  6. Date: Fri, 14 Aug 92 11:20:23 GMT
  7. Organization: Netcom - Online Communication Services  (408 241-9760 guest) 
  8. References: <bob_erck-130892110757@msdmac59.msd.anl.gov>
  9. X-Newsreader: Tin 1.1 PL4
  10. Lines: 9
  11.  
  12. The etching should leave no Boron residue, and the amount of Boron
  13. in the oxide would not be sufficient to form any acid otherwise all
  14. Boron doped device structures would be vulnerable. 
  15.  
  16. The phenomenon is well known in macro studies of fracture mechanics
  17. of glass and quartz, called "static fatigue" in that material tested
  18. immediately after fabrication is weakened by time, actually due to
  19. the stress-corrosion of the glass by water absorbed from the ambient.
  20. See Doremus's books and papers for details.
  21.